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  • 循環(huán)熱水系統(tǒng) 高低溫氣流儀TES

    【無錫冠亞】循環(huán)熱水系統(tǒng) 高低溫氣流儀TES,應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時間:2025-01-17

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 循環(huán)加熱設(shè)備 半導(dǎo)體制冷系統(tǒng)

    【無錫冠亞】循環(huán)加熱設(shè)備 半導(dǎo)體制冷系統(tǒng),應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時間:2025-01-17

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 循環(huán)加熱器 半導(dǎo)體用溫控設(shè)備

    【無錫冠亞】循環(huán)加熱器 半導(dǎo)體用溫控設(shè)備,應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時間:2025-01-17

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  • 溫控加熱器 半導(dǎo)體溫控設(shè)備TES

    【無錫冠亞】溫控加熱器 半導(dǎo)體溫控設(shè)備TES,應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時間:2025-01-17

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  • 半導(dǎo)體晶圓快速冷卻系統(tǒng) 芯片散熱水冷機

    【無錫冠亞】半導(dǎo)體晶圓快速冷卻系統(tǒng) 芯片散熱水冷機,冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動泵,經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

    更新時間:2025-01-17

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 晶圓冷卻腔體測溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置

    【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置,冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動泵,經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

    更新時間:2025-01-17

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